島津場發射電子探針EPMA-8050G

島津場發射電子探針EPMA-8050G 開創新紀元

——卓越的空間分辨率與超高靈敏度的完美結合

“The Grand EPMA” 誕生

搭載最尖端場發射電子光學系統將島津EPMA分析性能發揮到極緻。

從SEM觀察條件到1μA量級，在各種束流條件下都擁有無與倫比卓越空間分辨率的尖端場發射電子光學系統。結合島津傳統的高性能X射線譜儀，將分析性能發揮至極緻。

當之無愧的 “The Grand EPMA” ，最高水準的EPMA誕生！

[性能特點]

● 卓越的空間分辨率

電子探針可達到的最高級別的二次電子圖像分辨率3nm（加速電壓30kV），分析條件下No.1的二次電子分辨率。

（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）

● 大束流超高靈敏度分析

實現3.0μA（加速電壓30kV）的最大束流。可超高靈敏度進行超微量元素的面分析。並且全束流範圍無需更換物鏡光闌。

● 高性能X射線譜儀

秉承島津電子探針頗具優勢的52.5°X射線取出角。采用4英寸羅蘭圓半徑的分光晶體兼顧高靈敏度與高分辨率。可同時搭載5通道高性能X射線譜儀。分析性能更勝一籌。

● 全部分析操作簡單易懂

全部操作僅靠一個鼠標就可進行的先進可操作性。追求「易懂」的人性化用戶界面。搭載導航模式，自動指引直至生成報告。

◎實現微區超高靈敏度分析的先進技術

1　高亮度肖特基發射體

島津場發射電子槍采用的肖特基發射體比一般傳統SEM使用的發射體針尖直徑更

大，輸出更高。即可以保持其高亮度，還可提供高靈敏度分析不可缺少的穩

定大電流。

2　 EPMA專用電子光學系統

電子光學系統，聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側，交叉點不是靠聚光透鏡

形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構成與控製方式的可

變光闌透鏡來形成交叉點的（日本專利：第4595778號）。簡單的透鏡結

構，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設定最合適的打開角度，將電子

束壓縮到最細。當然是不需要更換物鏡光闌的。

3　超高真空排氣系統

電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2

級差動排氣系統。中間室與分析腔體間的氣流孔做到最小，以控製流入中

間室的氣體，使電子槍室始終保持著超高真空，確保發射體穩定工作。

4　高靈敏度X射線譜儀

島津場發射電子探針最多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。

52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時，又可減小樣品對X射線

的吸收，實現高靈敏度的分析。

[應用舉例]

1.   島津場發射電子探針EPMA-8050G檢測：無鉛焊錫焊料中Ag與Cu的分布

對無鉛焊錫焊料中大量含有Ag的區域進行面分析的數據。（加速電壓：10kV；照射電流：20nA）
Ag的X射線像中顆粒形狀與BSE像（COMPO）的顆粒形狀一緻。直徑約0.1μm的Ag顆粒也清晰可辨（紅色虛線圈出）。同時可確認Cu顆粒的存在（黃色虛線圈出）。

 島津場發射電子探針EPMA-8050G應用數據

     2. 島津場發射電子探針EPMA-8050G檢測：生物體組織中的金屬元素

以下數據為EPMA捕捉到的腫瘤細胞中鉑（Pt）元素圖像，通過靶向給藥將抗腫瘤藥物卡鉑（鉑絡合物）導入小鼠頭頸部腫瘤組織中後進行分析檢測。
卡鉑通過與癌細胞內的遺傳因子DNA鏈結合，阻礙DNA的分裂（複製）以殺滅癌細胞，我們可以通過元素圖像了解抗癌藥物以何種形態進入癌細胞內。

  島津場發射電子探針EPMA-8050G應用數據